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新浪爱彩磁控溅射方式介绍

发布时间:2021-05-10浏览次数:载入中...

新浪爱彩磁控溅射镀膜工艺,已经涉及到各个行业。在光学行业中,很多数码产品都是通过光学磁控溅射技术来进行镀膜的,为其改变使用性能及用途。装饰行业,我们身边用的卫浴、餐具、装饰品等产品,也有通过磁控溅射技术的镀上一层薄薄的膜层,为其改变美观度和性能。还有日常生活使用的柔性产品,真空行业统称卷绕产品,大部分产品也会应用到磁控溅射镀膜工艺。还有其它的各行各业,就不再一一列举。对镀膜相关产品有稍许接触的人,几乎都有听说过真空磁控溅射镀膜技术,可想而知磁控溅射镀膜技术在实际应用中的占据的分量。那么磁控溅射镀膜方式有方式,有哪些呢?

直流溅射(DC Magnetron Sputtering)、射频溅射(RF Magnetron Sputtering)、脉冲溅射(PulsedMagnetro n Sp uttering)和中频溅射(Medium Fre2quency Magnetro n Sp uttering)

反应溅射是在溅射系统里的惰性气体气氛中,通入一定比例的反应气体,通常用作反应气体的主要是氧气和氮气。

直流溅射方法用于被溅射材料为导电材料的溅射和反应溅射镀膜中,其工艺设备简单,有较高的溅射速率。

中频交流磁控溅射在单个阴极靶系统中,与脉冲磁控溅射有同样的释放电荷、防止打弧作用。中频交流溅射技术还应用于孪生靶(Twin2Mag)溅射系统中,中频交流孪生靶溅射是将中频交流电源的两个输出端,分别接到闭合磁场非平衡溅射双靶的各自阴极上,因而在双靶上分别获得相位相反的交流电压,一对磁控溅射靶则交替成为阴极和阳极。孪生靶溅射技术大大提高磁控溅射运行的稳定性,可避免被毒化的靶面产生电荷积累,引起靶面电弧打火以及阳极消失的问题,溅射速率高,为化合物薄膜的工业化大规模生产奠定基础。
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